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當(dāng)前位置：北京亞科晨旭科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>材料刻蝕
RIE反應(yīng)離子刻蝕采用模塊化設(shè)計(jì)，可滿足III/V半導(dǎo)體和Si加工工藝領(lǐng)域的的靈活應(yīng)用。 SENTECH SI 591可應(yīng)用于各種領(lǐng)域的蝕刻工藝中，能夠完成多種...
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